光刻機(Mask Aligner)又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

  生產集成電路的簡要步驟：

  利用模版去掉晶圓表面的保護膜。

  將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路。

  用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質。

  其中曝光機就是利用紫外線通過模版去掉晶圓表面的保護膜的設備。

  一片晶圓可以制作數十個集成電路，根據模版曝光機分為兩種：

  模版和晶圓大小一樣，模版不動。

  模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機聚焦部分移動。

  其中模版隨曝光機移動的方式，模版相對曝光機中心位置不變，始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。成為的主流

  光刻機的品牌眾多，根據采用不同技術路線的可以歸納成如下幾類：

  投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經購買過Nikon的光刻機)和日本Canon三品牌為主。

  位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發制作工作。

  生產線和研發用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數微米以上。主要有德國SUSS、MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。